
ACNE Control Maska DETOX Odnawiająca 45ml Fitokosmetic
towar niedostępny





Opis
Maska Detox Odnawiająca
do skóry trądzikowej 45ml
Acne Control Fitokosmetic
Naturalny i bogaty skład na bazie specjalnej formuły przeciwtrądzikowej: ACNE CONTROL COMPLEX TM
Detoks – maska do twarzy oczyszcza skórę, stymuluje odnowienie i poprawia koloryt skórę. Maska eliminuje pryszczy, pomaga w walce z trądzikiem, nawilża, odżywia witaminami i minerałami, czyni ją elastyczną. Zawiera czarny węgiel i ACNE CONTROL COMPLEX®, kwas salicylowy, kwas hialuronowy i olejek z czerwonego grejpfruta.
Maska Detox Odnawiająca Acne Control to:
- innowacyjny zabieg dla problematycznej skóry
- czarna maska na twarz z unikalnym Acne Control Complex
- głęboko wchłania się w skórę, skutecznie pochłania zanieczyszczenia, usuwa toksyny
- eliminuje niedoskonałości, wyrównuje koloryt i ukojenie skóry
- kwas salicylowy hamuje aktywność bakterii, prowadząc do ograniczenia powstawania trądziku
- kwas hialuronowy głęboko nawilża i uruchamia procesy odmładzania, wspomaga odnowę komórkową, uelastycznia skórę
- czerwony olej grejpfrutowy, dzięki swojej wysokiej przepuszczalności w komórkach skóry właściwej, natychmiast eliminuje zatyczki łojowe, przyspiesza procesy regeneracji, wyrównuje koloryt skóry, poprawia odporność skóry
SPOSÓB UŻYCIA
Równomiernie rozprowadzić na czystej, suchej skórze. Po 10-15 min spłukać wodą.
Środki ostrożności: do użytku zewnętrznego. Chronić w miejscu niedostęnym dla dzieci. W przypadku kontaktu z oczami - przemyć wodą.
SKŁAD INCI
Aqua, Charcoal Powder, Kaolin, Camellia Sinensis Leaf Water, ACNE CONTROL COMPLEX (Glycerin, Salicylic Acid, Glycolic Acid, Lactic Acid, Papain, Citric Acid, Hydrolyzed Hyaluronic Acid, Retinol, Allantoin, Niacinamide, Panthenol, Bisabolol), Salicylic Acid, Stearic Acid, Cetearyl Alcohol, Caprylic / Capric Triglycerides, Glycerin, Citrus Paradisi Peel Oil, Xanthan Gum, Hydrolyzed Elastin, Melaleuca Alternifolia Leaf Oil, Hyaluronic Acid, Parfum, Benzoic Acid, Sorbic Acid, Dehydroacetic Acid, Benzyl Alcohol.